Ein Elektronenmikroskop, das mit einem Rückstreuelektronen-Detektor ausgestattet ist, hat die Möglichkeit der Erzeugung von Bildern, auf welchen der Kontrast durch den Unterschied der Atomordnungszahl der Probe bestimmt ist. Zur Überprüfung des Atomordnungszahlkontrastes stehen jetzt drei Testobjekte zur Verfügung. Jedes davon besteht aus zwei hochreinen Elementen mit einem Unterschied der Atomordnungszahl von Z = 1. Das Element mit der niedrigeren Atomordnungszahl ist in Form eines Drahtes in das Element mit der höheren Atomordnungszahl eingefügt. Diese Testobjekte sind einzeln gefasst in Hülsen von 3 mm oder 5 mm Durchmesser erhältlich oder als Teil eines Vielfachhalters.

Ein Elektronenmikroskop, das mit einem Rückstreuelektronen-Detektor ausgestattet ist, hat die Möglichkeit der Erzeugung von Bildern, auf welchen der Kontrast durch den Unterschied der Atomordnungszahl der Probe bestimmt ist. Zur Überprüfung des Atomordnungszahlkontrastes stehen jetzt drei Testobjekte zur Verfügung. Jedes davon besteht aus zwei hochreinen Elementen mit einem Unterschied der Atomordnungszahl von Z = 1. Das Element mit der niedrigeren Atomordnungszahl ist in Form eines Drahtes in das Element mit der höheren Atomordnungszahl eingefügt. Diese Testobjekte sind einzeln gefasst in Hülsen von 3 mm oder 5 mm Durchmesser erhältlich oder als Teil eines Vielfachhalters.

Ein Elektronenmikroskop, das mit einem Rückstreuelektronen-Detektor ausgestattet ist, hat die Möglichkeit der Erzeugung von Bildern, auf welchen der Kontrast durch den Unterschied der Atomordnungszahl der Probe bestimmt ist. Zur Überprüfung des Atomordnungszahlkontrastes stehen jetzt drei Testobjekte zur Verfügung. Jedes davon besteht aus zwei hochreinen Elementen mit einem Unterschied der Atomordnungszahl von Z = 1. Das Element mit der niedrigeren Atomordnungszahl ist in Form eines Drahtes in das Element mit der höheren Atomordnungszahl eingefügt. Diese Testobjekte sind einzeln gefasst in Hülsen von 3 mm oder 5 mm Durchmesser erhältlich oder als Teil eines Vielfachhalters.

Der vielseitig verwendbare Geller-Universal-Referenz-Standard MRS-3XYZ, der für eine große Anzahl von Anwendungen wie REM, STM, AFM und lichtoptische Auf- und Durchlicht-Mikroskopie brauchbar ist, wurde um ein Muster für die Analyse von Partikelgrößen und zur Bestimmung der Video-Ortsauflösung erweitert. Die Verbesserung der Leitfähigkeit der Oberfläche hat zur Folge, dass der Standard hohe Elektronenströme aushält, ohne dass störende Aufladungen auftreten. Eine Bilddarstellung herunter bis 500 eV ist möglich. Die geometrische Struktur des Standards beinhaltet Gruppen von konzentrischen Quadraten, die verschiedene Ordnungen der Vergrößerungen umfassen, mit Linienweiten und -abständen von 250 µm, 25 µm und einem Feinraster von 2 µm. Messungen in der X-Y-Ebene können gegen NPL- und NIST-Standards zertifiziert werden. Eine Reihe von Quadraten und Rechtecken für die Bestimmung der Ortsauflösung beinhalten Linien und Abstände in Größen von 1 - 31 µm in 1 µm-Schritten, 30 - 75 µm in 5 µm-Schritten und 70 - 120 µm in 10 µm-Schritten. Die Kreise haben die Größe 2 - 38 µm in 2 µm-Schritten und 40 - 100 µm in 10 µm-Schritten. Der Standard kann ebenfalls für die Kalibrierung der Z-Ebene verwendet werden, bei einer Höhe von 0,1 µm ± 0,003 µm. Diese Messungen sind nur gegen NIST-Standard zertifizierbar. Eine 3,0 mm- Version des Standards ist auch für die Verwendung in Transmissionsmikroskopen im SE- und BSE-Betrieb erhältlich - allerdings unzertifiziert. Obwohl die Standards auch unmontiert erhältlich sind, ist die Verwendung von speziellen schützenden Haltern dringend zu empfehlen. Der Universalhalter ermöglicht die Anwendung im REM, im optischen Mikroskop und in anderen Instrumenten. Alternativ kann er speziell montiert (in der Öffnung eines Präzisions-Metallträgers) geliefert werden, der dann nur für die optische Mikroskopie verwendet wird (Durch- und Auflicht). Das größte Muster mit dem äußersten Quadrat von 8 mm x 8 mm mit Linienbreiten und – abständen von 250 µm (pitch 500 µm) kann für Vergrößerungen von x10 - x100 verwendet werden. Die 50 µm pitch - Struktur ist für x100 bis x1.000 vorgesehen und die 2 µm pitch im Zentrum des Testobjektes wird für x1000 bis x50.000 herangezogen. - Weitere Details auf Nachfrage. -

Der vielseitig verwendbare Geller-Universal-Referenz-Standard MRS-3XYZ, der für eine große Anzahl von Anwendungen wie REM, STM, AFM und lichtoptische Auf- und Durchlicht-Mikroskopie brauchbar ist, wurde um ein Muster für die Analyse von Partikelgrößen und zur Bestimmung der Video-Ortsauflösung erweitert. Die Verbesserung der Leitfähigkeit der Oberfläche hat zur Folge, dass der Standard hohe Elektronenströme aushält, ohne dass störende Aufladungen auftreten. Eine Bilddarstellung herunter bis 500 eV ist möglich. Die geometrische Struktur des Standards beinhaltet Gruppen von konzentrischen Quadraten, die verschiedene Ordnungen der Vergrößerungen umfassen, mit Linienweiten und -abständen von 250 µm, 25 µm und einem Feinraster von 2 µm. Messungen in der X-Y-Ebene können gegen NPL- und NIST-Standards zertifiziert werden. Eine Reihe von Quadraten und Rechtecken für die Bestimmung der Ortsauflösung beinhalten Linien und Abstände in Größen von 1 - 31 µm in 1 µm-Schritten, 30 - 75 µm in 5 µm-Schritten und 70 - 120 µm in 10 µm-Schritten. Die Kreise haben die Größe 2 - 38 µm in 2 µm-Schritten und 40 - 100 µm in 10 µm-Schritten. Der Standard kann ebenfalls für die Kalibrierung der Z-Ebene verwendet werden, bei einer Höhe von 0,1 µm ± 0,003 µm. Diese Messungen sind nur gegen NIST-Standard zertifizierbar. Eine 3,0 mm- Version des Standards ist auch für die Verwendung in Transmissionsmikroskopen im SE- und BSE-Betrieb erhältlich - allerdings unzertifiziert. Obwohl die Standards auch unmontiert erhältlich sind, ist die Verwendung von speziellen schützenden Haltern dringend zu empfehlen. Der Universalhalter ermöglicht die Anwendung im REM, im optischen Mikroskop und in anderen Instrumenten. Alternativ kann er speziell montiert (in der Öffnung eines Präzisions-Metallträgers) geliefert werden, der dann nur für die optische Mikroskopie verwendet wird (Durch- und Auflicht). Das größte Muster mit dem äußersten Quadrat von 8 mm x 8 mm mit Linienbreiten und – abständen von 250 µm (pitch 500 µm) kann für Vergrößerungen von x10 - x100 verwendet werden. Die 50 µm pitch - Struktur ist für x100 bis x1.000 vorgesehen und die 2 µm pitch im Zentrum des Testobjektes wird für x1000 bis x50.000 herangezogen. - Weitere Details auf Nachfrage. -