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Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 1 Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 1 NTNPSN100-1L
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 100 nm dicke nano-poröse Silizium-Membranen
  • Eine 0,7 mm x 2 mm Membran
  • Inhalt: 10 Stück
368,00 € *
Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 2 Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 2 NTNPSN100-2L
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 100 nm dicke nano-poröse Silizium-Membranen
  • Zwei 0,7 mm x 2,5 mm Membranen
  • Inhalt: 10 Stück
368,00 € *
Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 4 Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster 1 Stück 4 NTNPSN100-4L
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 100 nm dicke nano-poröse low-stress Silizium-Membranen
  • Vier 0,3 mm x 3 mm Membranen
  • Inhalt: 10 Stück
368,00 € *
TEMwindows Silizium Membran (nanokristalline, poröse Membran) 10 Stück 1x 500 x 500 µm TEMwindows Silizium Membran (nanokristalline, poröse Membran) 10 Stück 1x 500 x 500 µm NTUS100P30Q05
  • Nanokristalline, poröse Membranen. Poren ca. 10 nm - 60 nm; Porosität ca. 15 %
  • 30 nm
  • 500 µm x 500 µm  =  1 Fenster

 

388,00 € *
Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 0,5 µm Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 0,5 µm NTGFLAT3-1Q-05LP
G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren...
0,01 € *
Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 3 µm Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 3 µm NTGFLAT3-1Q-3LP
G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren...
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 5 µm Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 5 µm NTGFLAT3-1Q-5LP
G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren...
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 8 µm Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren niedrig (5%) 8 µm NTGFLAT3-1Q-8LP
G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren...
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren hoch (20%) 0,5 µm Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren hoch (20%) 0,5 µm NTGFLAT3-1Q-05HP
G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren...
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität NTMPSN-3L-05HP
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 400 nm dicke low-stress Siliziumnitrid-Membranen
  • Porendurchmesser: 0,50 µm
  • Inhalt: 10 Stück
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität 3 µm Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität 3 µm NTMPSN-3L-3HP
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 400 nm dicke low-stress Siliziumnitrid-Membranen
  • Drei 0,7 mm x 3 mm Membranen / Porendurchmesser: 3 µm 
  • Inhalt: 10 Stück
368,00 € *
Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität 8 µm Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und hoher Porosität 8 µm NTMPSN-3L-8HP
  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 400 nm dicke low-stress Siliziumnitrid-Membranen
  • Drei 0,7 mm x 3 mm Membranen
  • Verpackungseinheit: 10 Stück
368,00 € *
Siliziumnitrid-Membran "TEM Windows" mit definierten Poren Siliziumnitrid-Membran "TEM Windows" mit definierten Poren NTSN1A20MP2Q05
  • 100 µm dicker Siliziumrahmen für 3 mm TEM-Halter mit einem Fenster 500 µm x 500 µm
  • 20 nm Low-Stress Siliziumnitridmembran mit Ø 2 µm Poren in 2 µm Abstand
  • Verpackungseinheit: 10 Stück
382,00 € *
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