UltraSM Silizium TEM - Windows

Sie haben den großen Vorteil, Hintergrundanteil und - Störung sehr stark zu verringern, was bei einer Beobachtung mit höherem Kontrast von Wichtigkeit ist. Sie können wiederholt dem Plasma - Ätzen ausgesetzt werden, zum Beispiel für das Entfernen organischer Kontaminationen. Die nicht - porösen UltraSM TEM Windows sind in ihrer Stärke sehr regelmäßig, bei einem neuen Beobachtungsfeld ist der Hintergrund praktisch unverändert. Poröse UltraSM TEM Windows haben eigene poly - kristalline Strukturen, bieten aber schöne hintergrundfreie Poren als „Nanometer-Größen - Vergleiche". Diese Poren haben Öffnungen von 10 nm bis 50 nm. Im Vergleich mit den dünnsten amorphen Kohlefilmen zeigen die 5 nm dünnen UltraSM Silizium TEM Windows nur etwa die halbe Stärke der chromatischen Aberration. Dieser wichtige Effekt resultiert durch eine zweifache Reduzierung unelastischer Streuung von Elektronen durch die dünneren Membranen des UltraSM Silizium TEM Windows. Oder, anders ausgedrückt, bietet die reduzierte chromatische Aberration eine ca. zweifache Verbesserung in der Bildauflösung. Der Silizium - Aufbau in UltraSM TEM Windows bietet eine erhöhte Stabilität bei hohen Beschleunigungsspannungen und bei hohen Temperaturen. Das reine Silizium ergibt nur geringe Hintergrundsignale, was in Proben Elementanalysen mit Stickstoff oder Kohlenstoff durch EDX und EELS ermöglicht. Die isolierte poly - kristalline Struktur der porösen UltraSM TEM Windows bietet einen internen Kalibrierstandard für Röntgen - Diffraktions - Beobachtungen. Dieses Merkmal ist gleichzeitig ein Maß bei Hochauflösungs-Größenmessungen. Die Gitterebenen des Siliziums sind gut darstellbar. Die Hydrophilität der nicht -porösen und der porösen UltraSM TEM Windows kann durch Plasma - und / oder Ozon - Behandlung gut eingestellt werden, was die Probenpräparation, vor allem von Proben in wässrigen Lösungen, vereinfacht.


Bei der Handhabung der UltraSM TEM Windows gelten einige Vorsichtsmaßnahmen:

Es sollten mechanisch heftige Trocknungsschritte vermieden werden ( z. B. das Abnehmen überschüssiger Flüssigkeiten mit einem absorbierenden Papier ). Es ist empfehlenswert, die Proben in leichtem Vakuum, oder an der Luft langsam zu trocknen.

Hohe Salzkonzentrationen in der Flüssigkeit sollen vermieden werden. Wenn eine salzhaltige Flüssigkeit zum Einsatz kommen muss, ist ein nachträgliches Abspülen mit deionisiertem Wasser empfehlenswert, um Salzanlagerungen an der Membran zu vermeiden.

Die UltraSM TEM Windows sollen mit flachen Plastikpinzetten gehandhabt werden. Bei der Aufbewahrung in Gel - Pack - Schachteln müssen die Membranen nach oben zeigen ( kein Kontakt mit dem Gel ).

Die UltraSM TEM Windows sind aus reinem Silizium hergestellt und vertragen sehr gut das Plasma-Reinigen und Reinigung durch UV - Ozon. Jedoch hat das UV - Ozon einen Einfluss auf den Benetzungswinkel und erhöht die Hydrophilie.

Die Siliziummembran bildet durch die umgebende Atmosphäre eine natürliche Oxidschicht. Diese kann entfernt werden durch 15 Sekunden langes Waschen in 1:100 Flußsäure ( HF ). Bei längerer Verweildauer oder falscher Verdünnung kann die Membran langsam weggeätzt werden. Achten Sie bitte darauf, dass nur mit Flußsäure geschultes Personal mit entsprechenden Schutzvorkehrungen diesen Vorgang durchführt!

Oxidmembranen dürfen Flußsäure nicht ausgesetzt werden.

Die Rahmengröße beträgt ( oktagonal ) 3 mm, die Rahmendicke 100 µm und passt damit in die Standard - TEM - Halter.

Die hier folgend aufgeführten TEM Windows haben einen Außendurchmesser von 3 mm Ø und eine Rahmenstärke von 100 µm.

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UltraSM Silizium TEM - Windows

Sie haben den großen Vorteil, Hintergrundanteil und - Störung sehr stark zu verringern, was bei einer Beobachtung mit höherem Kontrast von Wichtigkeit ist. Sie können wiederholt dem Plasma - Ätzen ausgesetzt werden, zum Beispiel für das Entfernen organischer Kontaminationen. Die nicht - porösen UltraSM TEM Windows sind in ihrer Stärke sehr regelmäßig, bei einem neuen Beobachtungsfeld ist der Hintergrund praktisch unverändert. Poröse UltraSM TEM Windows haben eigene poly - kristalline Strukturen, bieten aber schöne hintergrundfreie Poren als „Nanometer-Größen - Vergleiche". Diese Poren haben Öffnungen von 10 nm bis 50 nm. Im Vergleich mit den dünnsten amorphen Kohlefilmen zeigen die 5 nm dünnen UltraSM Silizium TEM Windows nur etwa die halbe Stärke der chromatischen Aberration. Dieser wichtige Effekt resultiert durch eine zweifache Reduzierung unelastischer Streuung von Elektronen durch die dünneren Membranen des UltraSM Silizium TEM Windows. Oder, anders ausgedrückt, bietet die reduzierte chromatische Aberration eine ca. zweifache Verbesserung in der Bildauflösung. Der Silizium - Aufbau in UltraSM TEM Windows bietet eine erhöhte Stabilität bei hohen Beschleunigungsspannungen und bei hohen Temperaturen. Das reine Silizium ergibt nur geringe Hintergrundsignale, was in Proben Elementanalysen mit Stickstoff oder Kohlenstoff durch EDX und EELS ermöglicht. Die isolierte poly - kristalline Struktur der porösen UltraSM TEM Windows bietet einen internen Kalibrierstandard für Röntgen - Diffraktions - Beobachtungen. Dieses Merkmal ist gleichzeitig ein Maß bei Hochauflösungs-Größenmessungen. Die Gitterebenen des Siliziums sind gut darstellbar. Die Hydrophilität der nicht -porösen und der porösen UltraSM TEM Windows kann durch Plasma - und / oder Ozon - Behandlung gut eingestellt werden, was die Probenpräparation, vor allem von Proben in wässrigen Lösungen, vereinfacht.


Bei der Handhabung der UltraSM TEM Windows gelten einige Vorsichtsmaßnahmen:

Es sollten mechanisch heftige Trocknungsschritte vermieden werden ( z. B. das Abnehmen überschüssiger Flüssigkeiten mit einem absorbierenden Papier ). Es ist empfehlenswert, die Proben in leichtem Vakuum, oder an der Luft langsam zu trocknen.

Hohe Salzkonzentrationen in der Flüssigkeit sollen vermieden werden. Wenn eine salzhaltige Flüssigkeit zum Einsatz kommen muss, ist ein nachträgliches Abspülen mit deionisiertem Wasser empfehlenswert, um Salzanlagerungen an der Membran zu vermeiden.

Die UltraSM TEM Windows sollen mit flachen Plastikpinzetten gehandhabt werden. Bei der Aufbewahrung in Gel - Pack - Schachteln müssen die Membranen nach oben zeigen ( kein Kontakt mit dem Gel ).

Die UltraSM TEM Windows sind aus reinem Silizium hergestellt und vertragen sehr gut das Plasma-Reinigen und Reinigung durch UV - Ozon. Jedoch hat das UV - Ozon einen Einfluss auf den Benetzungswinkel und erhöht die Hydrophilie.

Die Siliziummembran bildet durch die umgebende Atmosphäre eine natürliche Oxidschicht. Diese kann entfernt werden durch 15 Sekunden langes Waschen in 1:100 Flußsäure ( HF ). Bei längerer Verweildauer oder falscher Verdünnung kann die Membran langsam weggeätzt werden. Achten Sie bitte darauf, dass nur mit Flußsäure geschultes Personal mit entsprechenden Schutzvorkehrungen diesen Vorgang durchführt!

Oxidmembranen dürfen Flußsäure nicht ausgesetzt werden.

Die Rahmengröße beträgt ( oktagonal ) 3 mm, die Rahmendicke 100 µm und passt damit in die Standard - TEM - Halter.

Die hier folgend aufgeführten TEM Windows haben einen Außendurchmesser von 3 mm Ø und eine Rahmenstärke von 100 µm.

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TEM Silizium Membran mit einem Fenstern - Pure Silicon Grids – Single Window TEM Silizium Membran mit einem Fenstern - Pure Silicon Grids – Single Window US100-A05Q00
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  • Fenstergröße: (1) 25µm
  • Membrandicke: 5 nm
  • Rahmen: 2,9 mm Durchmesser + 0,1 mm Dicke
  • Porösität: nicht porös
  • Inhalt: 10 Stück
393,75 € *
Siliziumdioxid Membran - TEM Windows, 20 nm, 9 Fenster Siliziumdioxid Membran - TEM Windows, 20 nm, 9 Fenster SN100H-A20Q33A
  • Siliziumdioxid Membran - TEM Windows , Temperaturstabil: bis 1000 ºC
  • 9 Fenster (8 Fenster 50 x 50 µm + 1 Fenster 50 x 100µm)
  • Membransicke: 20 nm
  • Inhalt: 10 Stück
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TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 5 nm TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 5 nm US100-A05Q33A
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (8) 50x50 µm + (1) 50x100 µm
  • Membrandicke: 5 nm
  • Rahmen: 2.9 mm Durchmesser / hexagonal + 0.1 mm Dicke
  • Inhalt: 10 Stück
ab 393,75 € *
TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 9 nm TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 9 nm NTUS100A09Q33
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (8) 100x100 µm + (1) 100x350 µm
  • Membrandicke: 9 nm
  • Rahmen: 2.9 mm Durchmesser / hexagonal + 0.1 mm Dicke
  • Inhalt: 10 Stück
ab 269,00 € *
TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 15 nm TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 15 nm US100H-A15Q33
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (8) 100x100 µm + (1) 100x350 µm
  • Membrandicke: 15 nm
  • Rahmen: 2.9 mm Durchmesser / hexagonal + 0.1 mm Dicke
  • Inhalt: 10 Stück
ab 273,00 € *
TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 25 nm TEM Silizium Membran 3x3 Fenster - Pure Silicon Grids – 3x3 Windows 25 nm US100-C25Q33A
  • Material: single crystal pure silicon
  • Fenstergröße: (8) 50x50 µm + (1) 50x100 µm
  • Membrandicke: 25 nm
  • Rahmen: 2.9 mm Durchmesser / hexagonal + 0.1 mm Dicke
  • Inhalt: 10 Stück
ab 429,00 € *
TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 5 nm 2x 50 µm x 1500 µm TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 5 nm 2x 50 µm x 1500 µm US100-A05L
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (2) 50 x 1500 µm
  • Membrandicke: 5 nm
  • Rahmen: 2,9 mm Durchmesser + 0,1 mm Dicke
  • Porösität: nicht porös
  • Inhalt: 10 Stück
ab 382,00 € *
TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 9 nm 2x 100 µm x 1500 µm TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 9 nm 2x 100 µm x 1500 µm US100-A09L
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (2) 100 x 1500 µm
  • Membrandicke: 9 nm
  • Rahmen: 2,9 mm Durchmesser + 0,1 mm Dicke
  • Porösität: nicht porös
  • Inhalt: 10 Stück
ab 269,00 € *
TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 15 nm 2x 100 µm x 1500 µm TEM Silizium Membran mit zwei Fenstern - Pure Silicon Grids – Two Slot Windows 15 nm 2x 100 µm x 1500 µm US100-A15L
  • Material: Amorphes Silizium
  • Fenstergröße: (2) 100 x 1500 µm
  • Membrandicke: 15 nm
  • Rahmen: 2,9 mm Durchmesser + 0,1 mm Dicke
  • Porösität: nicht porös
  • Inhalt: 10 Stück
ab 263,00 € *
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  • 1 Fenster, 1000 µm x 1000 µm
  • Rahmenstärke: 100 nm
  • Inhalt: 10 Stück
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Siliziumdioxid Membran - TEM Windows, 40 nm, 9 Fenster Siliziumdioxid Membran - TEM Windows, 40 nm, 9 Fenster SO100H-A40Q33
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  • 40 nm
  • Inhalt: 10 Stück
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Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 20 nm 8x 100 x 100 µm + 1x 100 x 350 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 20 nm 8x 100 x 100 µm + 1x 100 x 350 µm SN100-A20Q33
  • Rahmenstärke: 100 µm
  • Anzahl der Fenster: 9 (8x 100 x 100 µm + 1x 100 x 350 µm)
  • Membrandicke: 20 nm
  • Inhalt: 10 Stück
ab 209,00 € *
Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 20 nm 1x 500 µm x 500 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 20 nm 1x 500 µm x 500 µm SN100-A20Q05
  • Rahmenstärke: 100 µm
  • Anzahl der Fenster: 1 (500 µm x 100 µm)
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Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 5 nm + C2 2x 100 µm x 1500 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 5 nm + C2 2x 100 µm x 1500 µm SN100-A05L
  • Rahmenstärke: 100 µm
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  • Membrandicke: 5 nm + C2
  • Inhalt: 10 Stück
ab 368,00 € *
Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 50 nm 1x 500 µm x 500 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 50 nm 1x 500 µm x 500 µm SN100-A50Q05
  • Rahmenstärke: 100 µm
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ab 188,00 € *
Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 50 nm 1x 1000 µm x 1000 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 50 nm 1x 1000 µm x 1000 µm SN100-A50Q10
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Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 5 nm 1x 25 µm x 25 µm Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös 10 Stück 5 nm 1x 25 µm x 25 µm SN100A05Q00
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  • Membrandicke: 10 nm
  • Inhalt: 10 Stück
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Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress Siliziumnitrid, nicht porös SN100-A50Q33
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