MRS - 6 ( für x1.500 bis x1.000.000 )

Die Raster bestehen aus einer dünnen Chromschicht, die eine sehr gute Kantendefinition bietet. Diese ca. 15 nm Chromschicht erbringt zwar ein niedrigeres Sekundärelektronen – und Rückstreu - Elektronen - Signal, aber das Bild z. B. der 80 nm – Struktur ist trotzdem sehr gut. Das MRS - 6 - Testobjekt ist für Instrumentenkalibrierung zwischen x1.500 und x1.000.000 geeignet und wird für Anwendungen im REM, TEM ( mit einer Spezialgröße des Standards von 2 mm x 2 mm ), STM, AFM und für lichtoptische Auflichtmikroskopie genutzt.

Der Standard hat eine Gesamtgröße von etwa 3,2 mm x 3,2 mm x 0,5 mm und ist vollständig elektrisch leitfähig. Auf dem Chip befinden sich verschiedene Strukturen von 3 µm bis 80 nm – pitch ( Periodizität ) für Auflösungskalibrierungen und für die Linearitätsprüfung zeigt er eine Struktur mit einer Periodizität von 1 µm² über ein Feld von 40 x 40 µm. Eine ½ µm – quadratische Teststruktur mit 1 µm pitch hilft bei der Prüfung und Korrektur von Verzeichnungen, Vibrationen und magnetischen Feldern.

- Weitere Details auf Nachfrage -

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

MRS-6_2

 

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MRS - 6 ( für x1.500 bis x1.000.000 )

Die Raster bestehen aus einer dünnen Chromschicht, die eine sehr gute Kantendefinition bietet. Diese ca. 15 nm Chromschicht erbringt zwar ein niedrigeres Sekundärelektronen – und Rückstreu - Elektronen - Signal, aber das Bild z. B. der 80 nm – Struktur ist trotzdem sehr gut. Das MRS - 6 - Testobjekt ist für Instrumentenkalibrierung zwischen x1.500 und x1.000.000 geeignet und wird für Anwendungen im REM, TEM ( mit einer Spezialgröße des Standards von 2 mm x 2 mm ), STM, AFM und für lichtoptische Auflichtmikroskopie genutzt.

Der Standard hat eine Gesamtgröße von etwa 3,2 mm x 3,2 mm x 0,5 mm und ist vollständig elektrisch leitfähig. Auf dem Chip befinden sich verschiedene Strukturen von 3 µm bis 80 nm – pitch ( Periodizität ) für Auflösungskalibrierungen und für die Linearitätsprüfung zeigt er eine Struktur mit einer Periodizität von 1 µm² über ein Feld von 40 x 40 µm. Eine ½ µm – quadratische Teststruktur mit 1 µm pitch hilft bei der Prüfung und Korrektur von Verzeichnungen, Vibrationen und magnetischen Feldern.

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