Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress SiN nicht porös

PELCO Siliziumnitrid Membranen Support Filme für CLEM

Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress SiN nicht porös

Siliziumdioxid Membran 20 nm mit 3x3 Fenster - TEM Windows

Pelco Siliziumnitrid Lochfilm mit einer Porengröße

Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress SiN nicht porös

PELCO Siliziumnitrid Membranen Support Filme für CLEM

PELCO Siliziumnitrid Membranen Support Filme für CLEM

Pelco Siliziumnitrid Lochfilm mit einer Porengröße

Siliziumnitrid Membran - TEM Windows, Low-Stress SiN nicht porös

Siliziumnitrid X-Ray Röntgenfenster, viereckig, 5mm Rahmen, Fenster Größe 1.0mm, Membranstärke 200nm

Siliziumnitrid X-Ray Röntgenfenster, viereckig, 5mm Rahmen, Fenster Größe 2.0mm, Membranstärke 200nm

PELCO Siliziumnitrid Membranen Support Filme für CLEM

Silizium Rahmen für 3mm Halter mit 1 Fenster 100 µm

Pelco Siliziumnitrid Membran mit einer Membrandicke von 200 nm

Silizium Rahmen für 3mm Halter mit 1 Fenster 50 µm

Pelco Siliziumnitrid Membran mit einer Membrandicke von 15 nm

Silizium Rahmen ohne Trägerfilm, 1 Fenster 0,5 x 0,5mm, Dicke 200µm

Silizium-Scheibe ohne Beschichtung

Die Siliziumnitrid-Scheibe kann mit einem Siliziumrahmen mit Siliziumnitridmembran (aufeinander) verklebt werden (zum Beispiel mit Epoxy-Cement; darauf achten, dass über einen außen angebrachten Leit-C/PLANOCARBON-Tropfen eine elektrisch leitfähige Verbindung von der Scheibe zum Rahmen entsteht). Somit entsteht eine, Pelco "Liquid Cell", also ein Zelle für die Aufnahme von Flüssigkeiten, Pasten, etc. Eine dünne Membran von nur 50 nm hat eine niedrige Absorption bei der Verwendung von Rückstreuabbildung oder EDS im REM. Die erzielbaren Ergebnisse sind ähnlich oder besser als bei der Verwendung einer Polymermembran. Scheibendicke: 200 µm Silizium Scheibendurchmesser: 3 mm Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 nm +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 nm +/- 0,02 nm ergibt Verpackungseinheit: 10 Stück

Siliziumnitrid beschichtete Scheibe Ø 3mm

Pelco Hydrophilisierte Siliziumnitrid Membran

Pelco Hydrophobisierte Siliziumnitrid Membran

Siliziumdioxid-Trägerfilm für TEM, 40nm, 50 x 50µm Öffnungen (24) auf 0,5 x 0,5 mm Fenster, Ø 3 mm

Diese PELCO®-Membranen aus Siliziumdioxid (SiO2) bieten eine hervorragende Ebenheit. Unter Verwendung fortschrittlicher MEMS-Herstellungstechnologien in Kombination mit neuartigen Techniken zur Reduzierung von Spannungen konnten Siliziumdioxid-Trägerfolien mit einer unübertroffenen Ebenheit und einer Membrandicke von 40 nm, 18 nm und 8 nm hergestellt werden. Es ist wirklich die nächste Generation von Siliziumdioxidmembranen. Die Ebenheit unserer Siliziumdioxidmembranen ist mindestens 10x besser als bei Wettbewerbsprodukten. Die SiO2-Membranen sind vollständig amorph. Die Siliziumdioxid-Trägerfolien (SiO2) werden unter Verwendung der PELCO® 200-nm-Siliziumnitrid-Trägerfolien (Si3N4) mit einem Fenster von 0,5 mm x 0,5 mm auf einem perfekt runden 3-mm-Si-Rahmen als Plattform hergestellt. Die Siliziumdioxid-Trägerfolien bestehen aus reiner und amorpher thermischer SiO2-Membran. Die 0,5 mm x 0,5 mm Membran hat 24 Öffnungen mit einer Größe zwischen 50 x 50 um und 70 x 70 um, die in das thermisch abgeschiedene amporöse Siliciumdioxid zurückgeätzt werden, wobei eine strukturfreie, dünne SiO2-Membran von 40 nm, 18 nm oder 8 nm verbleibt, die an einem optisch transparenten (Si3N4 - Trägernetz von 200 nm aufgehängt ist . Die Balkengröße zwischen den SiO2-Öffnungen beträgt 25-35 um und die Grenzbreite 25-55 um. Das Design des Netzes und das Verhältnis von Netzsuspension und Siliziumdioxidfilm wurde optimiert, um flache Siliziumdioxid-Trägerfilme mit einer Größe von 50 x 50 um bis 70 x 70 um zu ermöglichen. Das Ergebnis ist eine Siliziumdioxidmembran mit einer wirklich hervorragenden Ebenheit, ideal für die TEM-Bildgebung. Bei dem einzigartigen Design dieses PELCO®-Produkts wird die Kompression im SiO2-Film durch die Spannung in der Si3N4-Gitterstruktur ausgeglichen. Die Maschengröße der Siliziumdioxid-Trägerfolien ist vergleichbar mit der Flächengröße der meisten 300- und 400-mesh-TEM-Netzchen und wird für viele Anwendungen als praktikable Größe angesehen. Auf jedem Bild befinden sich 24 Felder mit SiO2-Trägerfilmen. Die Grenze der 200-nm-Si3N4-Membran lässt viel Raum für Experimente mit Si3N4. Thermisches Siliziumdioxid ist eine der am häufigsten funktionalisierten Oberflächen in der analytischen Chemie und kann als Plattform zur Untersuchung von Basismaterialien und biologischen Einheiten verwendet werden. Die Trägerfolien können entweder als passive physikalische Träger für die TEM-Bildgebung oder als aktive Versuchsteilnehmer eingesetzt werden. Die PELCO® Siliziumdioxid-Trägerfolien weisen eine hervorragende chemische, physikalische und thermische Stabilität auf. Die Eigenschaften können durch Beschichtungen modifiziert oder verbessert werden, oder die Eigenschaften dünner Filme können durch direkte Abscheidung auf dem Siliziumdioxidfilm untersucht werden. Die 8 nm dünnen SiO2 -Membranen sind elastisch genug, um unter Verwendung eines FIB kundenspezifische Löcher herzustellen. Beispiele für Anwendungen sind: Ablagerung und Wachstum von Nanomaterialien. Dünnschichtanalyse und -charakterisierung. Katalysatorforschung und -entwicklung. Unterstützung für FIB-Lamellen. Charakterisierung von Halbleitermaterialien. Untersuchung von angehefteten biologischen Molekülen. Produktspezifikationen: Definierende Parameter für die PELCO® Amorphen Siliziumdioxid-Trägerfolien sind: Membrandicke: 40nm, 18nm und 8nm. Öffnungsgröße / Anzahl: 50 x 50 um / 24 Öffnungen für 40 nm, 60 x 60 um / 24 Öffnungen für 18 nm und 70 x 70 um / 24 Öffnungen für 8 nm. Muster: 5 Zeilen x 5 Spalten mit 200 nm Si3N4-Gitter-Trägerstruktur, 35 um Stab und 55 um Rand für 40 nm, 35 um Stab und 30 um Rand für 18 nm und 25 um Stab und 25 um Rand für 8 nm. Gesamtfensterfläche: 0,5 mm x 0,5 mm. Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard. Dies ermöglicht den Einbau in Standard-TEM-Halter und ergibt einen stabilen Stützrahmen. Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,41 nm ergibt. Rahmendurchmesser: TEM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit normalen TEM-Haltern und mit EasyGrip™-Kanten für eine verbesserte Handhabung. Verpackung: Die PELCO® Silicon Dioxide Support Films werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Storage Box verpackt. Jede Box enthält 10 Trägerfilme.  

Pelco Siliziumnitrid Lochfilm mit einer Porengröße

Pelco Siliziumnitrid Lochfilm mit unterschiedlichen Porengrößen

Pelco Siliziumnitrid Membran mit einer Membrandicke von 50 nm

Siliziumnitrid-Membran mit einem Fenster und 2 µm Poren - TEM Windows

Siliziumdioxid Membran mit 9 Fenster (8) 100x100µm + (1) 100x350µm), 40nm Membranstärke, nicht porös

Siliziumnitrid Membran mit 100 µm Substratdicke

Siliziumnitrid Membran mit 200 µm Substratdicke

Siliziumnitrid Membran 4 x 4 Multi-Frame, 200 µm Substrat Dicke

Siliziumnitrid Membran 5 x 5 Multi-Frame, 200 µm Substrat Dicke

Siliziumnitrid Membran 7 x 7 Multi-Frame, 200 µm Substrat Dicke

Siliziumnitrid X-Ray Röntgenfenster, viereckig, 10mm Rahmen, Fenster Größe 2.0mm, Membranstärke 200nm

Siliziumoxid Membran - G-Flat, 100 nm, 1 Fenster, 1000 µm x 1000 µm

Mikroporöse Siliziumnitrid Membranen (3 Fenster je 0,7x3 mm) mit Poren 0,5 nm und 20% Porosität, 400 nm

Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster

PELCO Siliziumnitrid Membranen Support Filme für CLEM

Siliziumnitrid Membran mit 1 Fenster 500 µm, Membrandicke 100 nm, Rahmengröße: 5 x 5 mm, nicht porös

Pelco Siliziumnitrid Membran mit einer Membrandicke von 100 nm