Die Siliziumnitrid-Scheibe kann mit einem Siliziumrahmen mit Siliziumnitridmembran (aufeinander) verklebt werden (zum Beispiel mit Epoxy-Cement; darauf achten, dass über einen außen angebrachten Leit-C/PLANOCARBON-Tropfen eine elektrisch leitfähige Verbindung von der Scheibe zum Rahmen entsteht). Somit entsteht eine, Pelco "Liquid Cell", also ein Zelle für die Aufnahme von Flüssigkeiten, Pasten, etc. Eine dünne Membran von nur 50 nm hat eine niedrige Absorption bei der Verwendung von Rückstreuabbildung oder EDS im REM. Die erzielbaren Ergebnisse sind ähnlich oder besser als bei der Verwendung einer Polymermembran. Scheibendicke: 200 µm Silizium Scheibendurchmesser: 3 mm Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 nm +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 nm +/- 0,02 nm ergibt Verpackungseinheit: 10 Stück

Diese PELCO®-Membranen aus Siliziumdioxid (SiO2) bieten eine hervorragende Ebenheit. Unter Verwendung fortschrittlicher MEMS-Herstellungstechnologien in Kombination mit neuartigen Techniken zur Reduzierung von Spannungen konnten Siliziumdioxid-Trägerfolien mit einer unübertroffenen Ebenheit und einer Membrandicke von 40 nm, 18 nm und 8 nm hergestellt werden. Es ist wirklich die nächste Generation von Siliziumdioxidmembranen. Die Ebenheit unserer Siliziumdioxidmembranen ist mindestens 10x besser als bei Wettbewerbsprodukten. Die SiO2-Membranen sind vollständig amorph. Die Siliziumdioxid-Trägerfolien (SiO2) werden unter Verwendung der PELCO® 200-nm-Siliziumnitrid-Trägerfolien (Si3N4) mit einem Fenster von 0,5 mm x 0,5 mm auf einem perfekt runden 3-mm-Si-Rahmen als Plattform hergestellt. Die Siliziumdioxid-Trägerfolien bestehen aus reiner und amorpher thermischer SiO2-Membran. Die 0,5 mm x 0,5 mm Membran hat 24 Öffnungen mit einer Größe zwischen 50 x 50 um und 70 x 70 um, die in das thermisch abgeschiedene amporöse Siliciumdioxid zurückgeätzt werden, wobei eine strukturfreie, dünne SiO2-Membran von 40 nm, 18 nm oder 8 nm verbleibt, die an einem optisch transparenten (Si3N4 - Trägernetz von 200 nm aufgehängt ist . Die Balkengröße zwischen den SiO2-Öffnungen beträgt 25-35 um und die Grenzbreite 25-55 um. Das Design des Netzes und das Verhältnis von Netzsuspension und Siliziumdioxidfilm wurde optimiert, um flache Siliziumdioxid-Trägerfilme mit einer Größe von 50 x 50 um bis 70 x 70 um zu ermöglichen. Das Ergebnis ist eine Siliziumdioxidmembran mit einer wirklich hervorragenden Ebenheit, ideal für die TEM-Bildgebung. Bei dem einzigartigen Design dieses PELCO®-Produkts wird die Kompression im SiO2-Film durch die Spannung in der Si3N4-Gitterstruktur ausgeglichen. Die Maschengröße der Siliziumdioxid-Trägerfolien ist vergleichbar mit der Flächengröße der meisten 300- und 400-mesh-TEM-Netzchen und wird für viele Anwendungen als praktikable Größe angesehen. Auf jedem Bild befinden sich 24 Felder mit SiO2-Trägerfilmen. Die Grenze der 200-nm-Si3N4-Membran lässt viel Raum für Experimente mit Si3N4. Thermisches Siliziumdioxid ist eine der am häufigsten funktionalisierten Oberflächen in der analytischen Chemie und kann als Plattform zur Untersuchung von Basismaterialien und biologischen Einheiten verwendet werden. Die Trägerfolien können entweder als passive physikalische Träger für die TEM-Bildgebung oder als aktive Versuchsteilnehmer eingesetzt werden. Die PELCO® Siliziumdioxid-Trägerfolien weisen eine hervorragende chemische, physikalische und thermische Stabilität auf. Die Eigenschaften können durch Beschichtungen modifiziert oder verbessert werden, oder die Eigenschaften dünner Filme können durch direkte Abscheidung auf dem Siliziumdioxidfilm untersucht werden. Die 8 nm dünnen SiO2 -Membranen sind elastisch genug, um unter Verwendung eines FIB kundenspezifische Löcher herzustellen. Beispiele für Anwendungen sind: Ablagerung und Wachstum von Nanomaterialien. Dünnschichtanalyse und -charakterisierung. Katalysatorforschung und -entwicklung. Unterstützung für FIB-Lamellen. Charakterisierung von Halbleitermaterialien. Untersuchung von angehefteten biologischen Molekülen. Produktspezifikationen: Definierende Parameter für die PELCO® Amorphen Siliziumdioxid-Trägerfolien sind: Membrandicke: 40nm, 18nm und 8nm. Öffnungsgröße / Anzahl: 50 x 50 um / 24 Öffnungen für 40 nm, 60 x 60 um / 24 Öffnungen für 18 nm und 70 x 70 um / 24 Öffnungen für 8 nm. Muster: 5 Zeilen x 5 Spalten mit 200 nm Si3N4-Gitter-Trägerstruktur, 35 um Stab und 55 um Rand für 40 nm, 35 um Stab und 30 um Rand für 18 nm und 25 um Stab und 25 um Rand für 8 nm. Gesamtfensterfläche: 0,5 mm x 0,5 mm. Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard. Dies ermöglicht den Einbau in Standard-TEM-Halter und ergibt einen stabilen Stützrahmen. Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,41 nm ergibt. Rahmendurchmesser: TEM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit normalen TEM-Haltern und mit EasyGrip™-Kanten für eine verbesserte Handhabung. Verpackung: Die PELCO® Silicon Dioxide Support Films werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Storage Box verpackt. Jede Box enthält 10 Trägerfilme.  

G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität. Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen. Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird. Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.