Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren und Schlitzfenster

Nanoporöses Siliziumnitrid: 100 nm dicke Membranen mit einem durchschnittlichen Porendurchmesser von 50 nm und einer Porosität von 20% mit einem, zwei oder vier Membran- / Chip-Formaten mit hochauflösenden Bildgebungs- und Separationseigenschaften.

• Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen.
• Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird.
• Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.

Eigenschaften:

• Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm
• Fenster Größe: (4) 0,3 x 3 mm
• Membrandicke: 100 nm
• Porengröße: ~50 µm, Porosität: 15% 
• Inhalt: 10 Stück