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Graphen-Trägerfilm auf Si-Nitrid-Lochfilm

Produktinformationen "Graphen-Trägerfilm auf Si-Nitrid-Lochfilm"

Dieses Graphen-Produkt wird von  Artikel 21535-10 Siliziumnitrid Lochfilm unterstützt, das Ø 2,5 µm Löcher mit einem 4,5 µm Abstand in einer 200 nm Si3N4 Membran über ein 0,5 mm x 0,5 mm großes Fenster hat. Die Graphen-Lage bedeckt das gesamte Fenster mit der ultraflachen Si3N4-Loch-Membran und lässt freistehendes Graphen über den 2,5 µm-Löchern zurück. Die nutzbare Gesamtfläche beträgt ca. 75 % aufgrund der unvermeidbaren Falten und Knicke in der Graphenfolie. Erhältlich mit 1-, 2- und 3 - 5 Graphen-Lagen. Forschungsreifes Produkt, geeignet für UHR-Bildgebung oder als ultraflache Experimentierplattform. Die Spezifikationen des Graphen sind die gleichen wie bei Artikel 21710-10 beschrieben.

  • Substrat: Siliziumnitrid Lochfilm auf Ø 3 mm Siliziumrahmen
  • Zahl der Graphen-Lagen: 1
  • Dicke des Graphen-Films: etwa 0,35 nm (Transparenz ca. 96,4 %)
  • Verpackungseinheit: 10 Stück