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Quantifoil Siliziumdioxid SiO2 mit unterschiedlichen Lochstrukturen
Produktinformationen "Quantifoil Siliziumdioxid SiO2 mit unterschiedlichen Lochstrukturen"
Dieser Siliziumoxid-Film besteht aus amorphem SiO2 mit einer Dicke von ca. 10 nm. Die Schicht ist homogen und robust.
- Lochgröße: 1.2 µm / Lochabstand: 20 µm
- Trägermaterial: Kupfer
- Mesh: 400
- Verpackungseinheit: 10 Stück
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