Nanoporöse Siliziumnitrid-Membranen mit Poren (hohe Porosität)

Nanoporöse Siliziumnitrid-Membranen mit Poren (hohe Porosität)
359,00 € *

zzgl. Versandkosten zzgl. MwSt.

Verpackungseinheit

1 Stück

Anzahl der Schlitzfenster

  • NTNPSN100-4L
Nanoporöses Siliziumnitrid: 100 nm dicke Membranen mit einem durchschnittlichen Porendurchmesser... mehr
Produktinformationen "Nanoporöse Siliziumnitrid-Membranen mit Poren (hohe Porosität)"

Nanoporöses Siliziumnitrid: 100 nm dicke Membranen mit einem durchschnittlichen Porendurchmesser von 50 nm und einer Porosität von 20% mit einem, zwei oder vier Membran- / Chip-Formaten mit hochauflösenden Bildgebungs- und Separationseigenschaften.

  • Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen.
  • Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird.
  • Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.
Zuletzt angesehen