Pelco® Siliziumnitrid-Lochfilm (einporig)

Pelco® Siliziumnitrid-Lochfilm (einporig)
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Verpackungseinheit

10 Stück

Lochgröße

  • 21535-10
Es wurden fortschrittliche MEMS-Technologien angewendet, um viele Verbesserungen in diese... mehr
Produktinformationen "Pelco® Siliziumnitrid-Lochfilm (einporig)"

Es wurden fortschrittliche MEMS-Technologien angewendet, um viele Verbesserungen in diese wirklich einzigartige Holey-Siliziumnitrid-Stützmembran der nächsten Generation zu integrieren. Löchermembranen oder Trägerfolien werden auch als perforierte oder gemusterte Folien bezeichnet; Es gibt keine Folie oder Membran, die die Löcher bedeckt. Die Plattform für diesen löchrigen Siliziumnitrid-Trägerfilm ist der spannungsarme 200-nm-Trägerfilm aus amorphem Siliziumnitrid auf einem kreisförmigen 3-mm-Siliziumrahmen mit einem Fenster von 0,5 x 0,5 mm. Es stehen zwölf Lochgrößen von 100 nm bis 5 um zur Verfügung.

Dieses Design hat eine Reihe von Vorteilen gegenüber bisher angebotenen Produkten:

  • Große Freifläche
  • Eng gepackt, höhere Porendichte durch hexagonales Porenmuster
  • Elastizität der Membran hinzugefügt
  • Praktische Lochgröße für Experimente
  • TEM Standard Kreisform und Größe
  • EasyGrip ™ Kante für verbessertes Handling

Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien sind beständig gegen Lösungsmittel, Säuren und Basen und ermöglichen dynamische Experimente direkt auf der löchrigen Membran. Die Siliziumnitrid-Trägerfolien ermöglichen Hochtemperaturexperimente / -bilder bis 1000° C. Filme können einfach mit Glimmentladungs- oder Plasma-Reinigungstechniken gereinigt werden. Sie bieten auch einen kohlenstofffreien Hintergrund für die TEM-Bildgebung und -Analyse. Durch die sauberen Herstellungstechniken werden die Schmutzpartikel vermieden, die häufig auf Siliziumnitrid-Trägerfilmen anderer Hersteller zu finden sind.

Produktspezifikationen:

Definierende Parameter für die PELCO® Holey-Siliziumnitrid-Trägerfolien sind:

  • Membrandicke: 200 nm für zusätzliche Elastizität
  • Fenstergröße: 0,5 x 0,5 mm
  • Porendurchmesser: Die Größen liegen innerhalb von 10% des Durchmessers
  • Muster: Eng gepackte hexagonale Anordnung von Zeilen und Spalten - siehe Tabelle
  • Perforierter Bereich: Siehe Tabelle
  • Nominale Porosität: Bereich zwischen 22,3% und 22,8%
  • Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard. Dies ermöglicht den Einbau in Standard-TEM-Halter und ergibt einen stabilen Stützrahmen
  • Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 +/- 0,02 nm ergibt
  • Rahmendurchmesser: TEM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit normalen TEM-Haltern und mit EasyGrip ™ -Kanten für eine verbesserte Handhabung
  • Verpackung: Die PELCO® Holey Silicon Nitride-Trägerfolien werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Storage Box verpackt. Jede Box enthält 10 Vorfilme.

Einzelporengrößen:

HOLE SIZE
PORE TYPE
PITCH µm
ARRAY
A
B
C
5000nm
circular
 10.0µm
90 x 90
450µm
450µm
25µm
2500nm
circular
  5.0µm
45 x 45
450µm
450µm
25µm
1250nm
circular
  2.5µm
180 x 180
450µm
450µm
25µm
1000nm
circular
2.0µm
225 x 225
450µm
450µm
25µm
750nm
circular
1.5µm
300 x 300
450µm
450µm
25µm
500nm
circular
1.0µm
450 x 450
450µm
450µm
25µm
400nm
circular
0.80µm
562 x 562
450µm
450µm
25µm
300nm
circular
0.60µm
750 x 750
450µm
450µm
25µm
250nm
circular
0.50µm
900 x 900
450µm
450µm
25µm
200nm
circular
0.40µm
1125 x 1125
450µm
450µm 25µm
150nm
circular
0.40µm
1125 x 1125
450µm
450µm 25µm
100nm 
circular
0.20µm
375 x 375
75µm
75µm
212.5µm
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