Pelco® Siliziumnitrid-Membran, 50 nm Membrandicke

Pelco® Siliziumnitrid-Membran, 50 nm Membrandicke
208,80 € *

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Verpackungseinheit

10 Stück

Membran

50 nm

Rahmenstärke

Fenstergröße

  • 21501-10
Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien für TEM (auch Si3N4-TEM-Membranen genannt) wurden als... mehr
Produktinformationen "Pelco® Siliziumnitrid-Membran, 50 nm Membrandicke"

Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien für TEM (auch Si3N4-TEM-Membranen genannt) wurden als Ergänzung zu unserem umfangreichen Sortiment an TEM-Trägerfolien entwickelt, um Nanotechnologieanwendungen weiter zu ermöglichen und die molekularbiologische Forschung zu erweitern. Diese überlegenen Produkte werden durch hochmoderne Halbleiter- und patentierte MEMS-Herstellungstechniken unter Verwendung elastischer, spannungsarmer anorganischer und amorpher Siliziumnitrid-Dünnfilme hergestellt, die von einem stabilen Siliziumrahmen getragen werden. PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien sind in vier Fenstergrößen in Kombination mit einer Membrandicke von 8, 15, 35, 50 oder 200 nm auf einem runden Rahmen mit 3 mm Durchmesser nach EM-Industriestandard erhältlich. Dies macht sie zu den begehrtesten und nützlichsten Siliziumnitrid-Trägerfolien in der aktuelle Marktplatz.
Siliziumnitrid-Trägerfolien haben den Vorteil, chemisch und mechanisch robust zu sein und Temperaturschwankungen von bis zu 1000° C standzuhalten. Sie sind äußerst stabil und eignen sich für eine Vielzahl von nanotechnologischen Experimenten mit Partikeln oder Zellen, die direkt auf den Trägerfolien angebracht sind.

Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien sind unverzichtbare Werkzeuge für nahezu alle Bereiche der Nanotechnologieforschung. Sie ermöglichen die direkte Abscheidung und In-situ-Beobachtung dynamischer Reaktionen über einen weiten Temperaturbereich. Der Trägerfilm kann als passiver Trägerfilm verwendet werden, kann aber auch als aktiver Teilnehmer an Experimenten eine Rolle spielen.

PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien werden unter Verwendung modernster Halbleiter- und MEMS-Herstellungstechniken hergestellt. Der amorphe Siliziumnitrid-Trägerfilm wird auf einem Siliziumwafer auf die gewünschte Membrandicke von 8, 15, 35, 50 oder 200 nm aufgewachsen. Der Probenbetrachtungsbereich wird durch Wegätzen eines Fensters im Siliziumsubstrat erzeugt, wodurch ein perfekt glatter, elastischer und chemisch robuster Siliziumnitridfilm zurückbleibt. Der Rahmen ist als 3-mm-Silikonscheibe mit glatten EasyGrip ™ -Rändern für die einfache Handhabung mit einer Pinzette hergestellt und passt perfekt in Standard-TEM-Halterungen. Die Standarddicke des Silikonrahmens beträgt 200 µm, was für die meisten TEM-Halter geeignet ist. Für spezielle TEM-Halter, die nur dünnere Träger aufnehmen, ist eine spezielle Version mit einer Dicke von 50 µm und einem Fenster von 0,25 x 0,25 mm erhältlich. Einfache Handhabung und glatte Kanten sind Designvorteile gegenüber Siliziumnitrid-Trägerfolien anderer Marken. Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien werden wie Gitter hergestellt und sind völlig frei von Schmutzpartikeln. Die mechanische und chemische Stabilität ermöglicht die Reinigung der Siliziumnitrid-Trägerfolien mit Chemikalien (Lösemittel, Säuren und Basen), Glimmentladung und Plasma-Reinigung. Es wird empfohlen, keine Ultraschallreinigung durchzuführen, da dies die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien leicht zersplittern lässt.

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Anwendungsbereiche:

  • Zellbiologie: Anhaftende Zellen können in ihrer Umgebung auf dem Trägerfilm gezüchtet und anschließend analysiert werden
  • Analyse von Kolloiden, Aerosolen, Nanopartikeln
  • Selbstorganisierte Monolagen
  • Polymerforschung
  • Dünnschichtforschung (direkt auf der Siliziumnitrid-Trägerfolie abgeschieden)
  • Materialwissenschaften
  • Eigenschaften von Nanostrukturen für Halbleiterbauelemente
  • Halbleiter: Charakterisierung dünner Schichten
  • Katalysatorentwicklung

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Produktbeschreibung:

Definierende Parameter für die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien sind:

  • Filmdicke: Elastisch, extrem spannungsarm, 8, 15, 35 oder 50 nm, was zu einer minimalen Absorption führt, um eine klare Bildgebung zu ermöglichen. robuste, spannungsarme 200 nm für eine bessere Handhabung und Verwendung auf mehreren Plattformen
  • Fenstergrößen: 0,25 x 0,25 mm, 0,5 x 0,5 mm, 0,75 x 0,75 mm, 1,0 x 1,0 mm, 0,5 x 1,5 mm und Versionen mit mehreren Fenstern mit 9 Fenstern von 0,1 x 0,1 mm in einem 3 x 3-Array oder 2 Fenstern von 0,1 x 1,5 mm. Größere Fenster bieten einen größeren Betrachtungsbereich und ermöglichen beispielsweise die höheren Neigungswinkel, die für Tomographieanwendungen erforderlich sind. Die Versionen mit mehreren Fenstern ermöglichen die Montage mehrerer Muster in separaten Fenstern.
  • Fenster- / Öffnungsgröße für ultradünne 8-nm-Filme: Die Fenstergröße beträgt 0,5 x 0,5 mm mit 25 Öffnungen von 60 x 60 ?m auf einem 200-nm-Siliziumnitrid-Trägernetz. Stabbreite 35µm, Rand 30µm (siehe Fertigungsdetails).
  • Fenster- / Öffnungsgröße für belastbaren 35-nm-Film: Die Fenstergröße beträgt 0,5 x 0,5 mm bei 25 Öffnungen von 70 x 70 ?m auf einem 200-nm-Stützgitter. Stabbreite 25µm, Rand 25µm (siehe Fertigungsdetails).
  • Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard. Dies ermöglicht den Einbau in alle gängigen TEM-Halter und ergibt einen stabilen Tragrahmen. Für spezielle TEM-Halter sind auch 50µm erhältlich.
  • Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 +/- 0,02 nm ergibt;
  • Rahmendurchmesser: EM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit TEM-Haltern und mit EasyGrip ™ -Kanten für eine verbesserte Handhabung;
  • Verpackung: Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Storage Box verpackt. Jede Box enthält 10 Vorfilme.

Alle unsere Produkte sind <100> oberflächenorientiert.

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