Sputter-Scheibentarget, Gold/Palladium (80%/20%), Ø 57mm x 0,1mm

Sputter Targets sind scheiben- oder ringförmige Körper aus hochreinen Materialien, die als Ausgangsbasis für die Abscheidung von Dünnfilmen in einer Sputteranlage dienen. Unter Vakuumbedingungen werden die Atome oder Moleküle des Targets durch den Sputterprozess herausgelöst und gleichmäßig auf ein Substrat oder eine Probe abgeschieden.

In der Rasterelektronenmikroskopie (REM) wird auf nichtleitenden Proben eine extrem dünne, leitfähige Schicht aufgebracht, um die Ableitung der durch den Elektronenstrahl eingebrachten Ladungen zu gewährleisten. Ohne diese leitfähige Beschichtung kommt es zu Aufladungen, die Bildverzerrungen und Unschärfen verursachen können. Ziel der Beschichtung ist es, die Oberflächenstruktur so wenig wie möglich zu verändern, damit sie im REM naturgetreu und detailreich dargestellt werden kann.

Bei der Auswahl des passenden Sputter Targets sind vor allem die Abmessungen für den verwendeten Sputtercoater, mögliche Trägerplatten sowie die Wahl des geeigneten Materials entscheidend.

• Material: Au / Pd (80%/20%)
• Maße: Ø 57 mm x 0,1 mm Dicke
• Verwendbar für:  ISI, JEOL, Agar, Cressington, Emitech, EMS, Emscope, Pelco, Polaron, Quorum
• Verpackungseinheit: 1 Stück