Goldbeschichteter Silizium Wafer

Goldbeschichtete Silizium-Wafer werden als AFM und REM-Substrat verwendet, aber auch in der Nanotechnologie und der Biotechnologie. Auf den Wafer wird zuerst eine Chromschicht aufgebracht, damit die dann endgültige Goldschicht besser haftet. Die Goldschicht ist zwar nicht atomar flach, sie hat „Beulen”, aber nur im Nanometer-Bereich. Der Wafer wird in einer entsprechenden Wafer-Transportschale geliefert. Die Goldschicht sollte bis +175 °C stabil bleiben, oberhalb dieser Temperatur könnte sie sich beginnen zu lösen. Parameter:                          

• Durchmesser: 100 mm ( 4 ")
• Waferdicke: 460-530 µm, <111> Orientierung, P-Typ
• Chromschicht: ca. 5 nm
• Goldschicht: ca. 50 nm (± 5 nm)
• Verpackungseinheit: 1 Stück