Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren (1 Schlitz)

Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren (1 Schlitz)
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  • NTNPSN100-2L
Produktinformationen "Nanoporöse Siliziumnitrid Membranen mit Poren (1 Schlitz)"

Nanoporöses Siliziumnitrid: 100 nm dicke Membranen mit einem durchschnittlichen Porendurchmesser von 50 nm und einer Porosität von 20% mit einem, zwei oder vier Membran- / Chip-Formaten mit hochauflösenden Bildgebungs- und Separationseigenschaften.

  • Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen.
  • Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird.
  • Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.

Eigenschaften:

  • Rahmen: 5,4 mm x 5,4 mm ; Dicke 0,3 mm
  • Membrandicke: 100 nm dicke nano-poröse Silizium-Membranen
  • Zwei 0,7 mm x 2,5 mm Membrane
  • ~50 nm durchschnittliche Porengröße
  • ~20% Porosität
  • Inhalt: 1 Stück
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