Pelco Hydrophilisierte Siliziumnitrid Membran

Pelco Hydrophilisierte Siliziumnitrid Membran
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Membran

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  • 21551-10
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Produktinformationen "Pelco Hydrophilisierte Siliziumnitrid Membran"

Siliziumnitridmembranen wurden unter Verwendung von Atomic Layer Deposited (ALD) -Techniken modifiziert, um ihre Oberflächeneigenschaften zu ändern. Abhängig vom verwendeten Verfahren wurden sowohl hydrophile als auch hydrophobe Substrate mit den folgenden Vorteilen erzeugt:

  • Wahl zwischen niedrigen und hohen Oberflächenenergien
  • Glatte und konforme Untergründe
  • Verbesserte Benetzung und Biokompatibilität (hydrophil)
  • Keine Plasmabehandlung der Oberfläche vor dem Zellwachstum erforderlich
  • Die hydrophobe Beschichtung bietet eine neuartige Plattform für die Abscheidung und das Wachstum von Nanomaterialien
  • Hydrophobe Oberflächen verbessern die Probenvorbereitung für Materialien, die in organischen Lösungsmitteln gelöst oder suspendiert sind. Nanopartikel in organischen Lösungsmitteln (wie Kohlenstoffnanoröhren) dispergieren leicht auf der Siliziumnitridmembranoberfläche.
  • Hydrophile Oberflächen verbessern die Benetzung und Dispersion wässriger Lösungen. Dies vermeidet Partikelaggregationseffekte, die üblicherweise auf weniger hydrophilen Oberflächen beobachtet werden. Besonders nützlich in wasserbasierten Solen und Life-Science-Anwendungen.
  • Beide Beschichtungen sind auf 50 nm- und 200 nm-PELCO®-Siliziumnitridmembranen mit einem Fenster von 0,5 mm x 0,5 mm und einer 15 nm-Si3N4-Membran mit 9 Fenstern von jeweils 0,1 nm x 0,1 nm auf einem 200 µm-Siliziumrahmen mit einem Durchmesser von 3 mm erhältlich und mit allen Standard-TEM-Netzchenhaltern kompatibel . Beide Seiten der Membran und des Rahmens sind beschichtet. Wir empfehlen, die Scheiben am Rand zu fassen.

Spezifikation:

  • Hydrophil: 2,5 nm Atomlagen-abgeschiedenes hydroxyliertes Aluminiumoxid auf 15, 50 und 200 nm Siliziumnitridmembran mit extrem geringer Spannung
  • Hydrophob: 2,5 nm Atomlagen-abgeschiedenes Aluminiumoxid und Fluor-Methyl-Silan auf 15, 50 und 200 nm Siliziumnitridmembran mit extrem geringer Spannung
  • Oberflächenenergie:
Surface Surface Energy (mJ/m2) Standard Deviation
Silicon Nitride Membrane 46.1 4.3
Hydrophilic Coating 76.1 2.2
Hydrophobic Coating 24.6 4.4
mj= millijoules
  • Oberflächenrauheit:
Surface Surface Roughness (nm) Standard Deviation
Silicon Nitride Membrane Rq=0.65
Ra=0.45
0.06
0.02
Hydrophilic Coating Rq=0.57
Ra=0.40
0.04
0.03
Hydrophobic Coating Rq=0.66
Ra=0.40
0.03
0.05
Rq= Surface Roughness; Ra= Roughness Average

  • Filmdicke: Elastisch, geringe Beanspruchung bei 15, 50 und 200 nm, was zu einer minimalen Absorption führt, um eine klare Bildgebung zu ermöglichen
  • Fenstergrößen: Array von 9 x 0,1 mm x 0,1 mm oder 1x  0,5 mm x 0,5 mm
  • Rahmendicke: Die Silizium-Trägerstruktur entspricht dem 200-µm-Standard.
  • Rahmendurchmesser: EM-Standardscheibe mit 3 mm Durchmesser, voll kompatibel mit Standard-TEM-Haltern (keine gebrochenen Kanten) EasyGrip−Kanten für die einfache Handhabung mit einer Pinzette
  • Verpackung: Die PELCO® Siliziumnitrid-Trägerfolien werden unter Reinraumbedingungen in der PELCO® # 160 TEM Grid Aufbewahrungsbox verpackt. Jede Box enthält 10 Trägerfilme.
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