Siliziumnitrid-Membranen mit Mikroschlitze und Poren

Siliziumnitrid-Membranen mit Mikroschlitze und Poren
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Verpackungseinheit

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Porengröße

  • NTMSSN400-3L-8
Mikroschlitz-Siliziumnitrid: Neuartige rechteckige prismenförmige Poren in robusten 400 nm... mehr
Produktinformationen "Siliziumnitrid-Membranen mit Mikroschlitze und Poren"

Mikroschlitz-Siliziumnitrid: Neuartige rechteckige prismenförmige Poren in robusten 400 nm dicken Siliziumnitridmembranen mit 10% Porosität, geeignet für Trennanwendungen.

  • Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen.
  • Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird.
  • Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.
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