Mikroporöse Siliziumoxid-Membranen (G-FLAT) mit Poren

G-FLAT™ Silizium Oxid: Proprietäre und optisch transparente Membranen für hochauflösende Bildgebungsanwendungen, erhältlich mit Poren von 0,5 µm, 3 µm, 5 µm oder 8 µm Durchmesser und geringer (5 %) oder hoher (20 %) Porosität.

• Plasmakompatibel: Alle unsere porösen Membranchips können mit Sauerstoff oder Sauerstoff-Argon-Plasma behandelt werden, um Oberflächen zu aktivieren und / oder organische Verunreinigungen zu entfernen.

• Geräteintegration: Unsere porösen Membranchips lassen sich problemlos in mikrofluidische Anwendungen integrieren, bei denen die Suspension von Materialien von Interesse über eine durchlässige und transparente Membran gewünscht wird.

• Ultradünne Membranen: Flache, gleichmäßig abgeschiedene Filme und 100 nm bis 400 nm dicke suspendierte Membranen bieten konsistente Hintergründe mit geringer Variabilität von Feld zu Feld und hoher optischer Transparenz.