Siliziumnitrid beschichtete Scheibe

Siliziumnitrid beschichtete Scheibe
117,00 € *

zzgl. Versandkosten zzgl. MwSt.

Verpackungseinheit

10 Stück

Eigenschaften

  • 21555-10
Diese 3 mm Silizium-Scheibe trägt beidseitig eine ultra-flache, ultra-low-stress 50 nm... mehr
Produktinformationen "Siliziumnitrid beschichtete Scheibe"

Diese 3 mm Silizium-Scheibe trägt beidseitig eine ultra-flache, ultra-low-stress 50 nm Siliziumnitrid-Beschichtung. Die Oberfläche ist sauber und frei von Bruchstücken und die Ränder haben keine gebrochenen Kanten. Sie können unter anderem für REM– und FESEM Untersuchungen verwendet werden, aber auch als Substrat für AFM.

Diese Siliziumnitrid beschichtete Scheibe ist auch hydrophilisiert oder hydrophobisiert erhältlich. Die Beschichtung bei der hydrophilisierten Version besteht aus 5 nm Atomic Layer Deposited (ALD) hydroxiliertem Aluminumoxid und bei der hydrophobisierten Version ist es 5 nm ALD Aluminiumoxid und Fluor-Methyl-Silan.

  • Schichtdicke: beidseitig 50nm hochspannungsarmes Siliziumnitrid
  • Scheibendurchmesser: 3mm
  • Oberflächenrauheit: Der RMS (Rq) beträgt 0,65 +/- 0,06 nm, was eine mittlere Rauheit (Ra) von 0,45 +/- 0,02 nm ergibt
Zuletzt angesehen