FIB- und Ionenstrahl-Sputter-Kalibrierstandard (12 layers) auf 10 x 30 mm Si

FIB- und Ionenstrahl-Sputter-Kalibrierstandard (12 layers) auf 10 x 30 mm Si
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Produktinformationen "FIB- und Ionenstrahl-Sputter-Kalibrierstandard (12 layers) auf 10 x 30 mm Si"

Ionensputter-Standards, hergestellt mit höchster Präzision zur Kalibrierung der Sputterrate von Sputter-Ionenquellen. Zur Kalibrierung der Sputterrate stehen dünne Filme aus Nickel / Chrom (Ni / Cr) zur Verfügung.

Bestehend aus 12 alternierenden Schichten: 6 Schichten Cr (~ 53 nm) und 6 Schichten Ni (~ 64 nm) für eine Gesamtdicke von ~ 700 nm mit einer maximalen Variation von ± 2% über den 75 mm Produktionswafer. Standard ist ein 10 mm x 30 mm großer Abschnitt eines polierten Siliziumwafers. Die Massendichte von Cr und Ni wurde unter Verwendung von Elektronenstrahlanregung und Messung charakteristischer Röntgenintensitäten gemessen.

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